宇微光學(xué)成功研發(fā)全國產(chǎn)、自主可控的計(jì)算光刻OPC軟件，成功填補(bǔ)國內(nèi)空白，加速推動(dòng)了對(duì)芯片制造領(lǐng)域“卡脖子”問題的攻關(guān)與突破。協(xié)會(huì)會(huì)員單位致道資本作為宇微光學(xué)天使輪融資的投資方，持續(xù)看好公司發(fā)展前景，鼎力支持宇微光學(xué)在未來實(shí)現(xiàn)更多自主研發(fā)目標(biāo)。

“OPC是EDA（電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化）工業(yè)軟件的一種，沒有這種軟件，即使有光刻機(jī)，也造不出芯片。從基礎(chǔ)研究到產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，我們團(tuán)隊(duì)整整走了十年。十年磨一劍，就是要解決芯片從設(shè)計(jì)到制造的卡脖子問題?！?/span>

在光谷，華中科技大學(xué)教授劉世元?jiǎng)?chuàng)立的宇微光學(xué)軟件有限公司（以下簡(jiǎn)稱“宇微光學(xué)”），已成功研發(fā)全國產(chǎn)、自主可控的計(jì)算光刻OPC軟件，填補(bǔ)國內(nèi)空白。目前正在做集成與測(cè)試，并到芯片生產(chǎn)廠商做驗(yàn)證。

劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關(guān)鍵的一種工藝，通過光刻成像系統(tǒng)，將設(shè)計(jì)好的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會(huì)產(chǎn)生畸變。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必須采用一類名為OPC（光學(xué)臨近校正）的算法軟件進(jìn)行優(yōu)化。沒有OPC，所有IC制造廠商將失去將芯片設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)化為芯片產(chǎn)品的能力。

目前，全球OPC工具軟件市場(chǎng)完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領(lǐng)。

劉世元是華中科技大學(xué)集成電路測(cè)量裝備研究中心主任，同時(shí)也是光谷實(shí)驗(yàn)室集成電路測(cè)量檢測(cè)技術(shù)創(chuàng)新中心主任。他早年師從華中理工大學(xué)前校長、著名機(jī)械學(xué)家楊叔子院士，于1998年獲工學(xué)博士學(xué)位。

2002年，從英國訪學(xué)歸國后不久，劉世元在學(xué)院派遣下，作為最早的幾個(gè)技術(shù)骨干之一，加盟上海微電子裝備有限公司(SMEE)，承擔(dān)國家863重大專項(xiàng)——“100nm光刻機(jī)”研制任務(wù)，為總體組成員、控制學(xué)科負(fù)責(zé)人。通過3年多的奮斗，他組建了SMEE第一個(gè)控制工程實(shí)驗(yàn)室，解決了掃描投影光刻機(jī)中掩模臺(tái)、工件臺(tái)、曝光劑量等同步控制的技術(shù)難題。

2020年10月，劉世元成立宇微光學(xué)公司。目前，團(tuán)隊(duì)除了2名行政人員外，全部為研發(fā)人員，他們來自中國、美國、俄羅斯等不同國家，在相關(guān)領(lǐng)域均為頂尖技術(shù)專家，30%以上成員擁有博士學(xué)位，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。

下一步，宇微光學(xué)將加快產(chǎn)品推廣步伐，加快進(jìn)入國內(nèi)外芯片制造廠商市場(chǎng)，力爭(zhēng)成為全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈中重要的一環(huán)。